Xi Mạ PVD bắt nguồn

Vào giữa những năm 1800, xi mạ pvd một nhà khoa học tên là Faraday đã bốc hơi các màng mỏng trong chân không khi ông phát nổ dây dẫn trong phòng thí nghiệm. Mãi cho đến cuối những năm 1800 những bộ phim đầu tiên sẽ được Nahrwold đặt vào chân không. Đây là sự khởi đầu của phương pháp lắng đọng chân không mà giờ đây chúng ta gọi là lớp phủ PVD (Physical Vapor Deposition). Việc áp dụng công nghệ này vẫn chủ yếu là học tập cho đến khi Thế chiến thứ hai đăng ký. Các chi nhánh của công nghệ phủ PVD gọi là mạ ion đã không được phát triển cho đến năm 1963 bởi Donald Mattox.

Công nghệ mạ PVD bao gồm ba phương pháp lắng đọng sơ cấp, bốc hơi, phun trào và đúc cathode. Quá trình phủ PVD là một quy trình phủ chân không thân thiện với môi trường có khả năng áp dụng nhiều loại màng khác nhau ở nhiệt độ quá trình khác nhau. Tính linh hoạt này cho phép lớp phủ được áp dụng cho nhiều loại chất nền khác nhau. Để xem các lớp phủ hiện đang được cung cấp bởi NCT chọn tùy chọn Coatings từ trình đơn. Các thành phần được sản xuất từ ​​nhựa đến thép đã được phủ thành công bằng cách sử dụng quá trình phủ PVD. Các báo cáo ứng dụng và các vùng ứng dụng khác nhau cho lớp phủ PVD có thể được tìm thấy bằng cách chọn tùy chọn Ứng dụng từ trình đơn.

Mạ Ion là một chi nhánh của lớp phủ PVD. Quá trình mạ ion ion hóa vật liệu bị bốc hơi. Sự ion hóa này làm tăng đáng kể tính chất và độ bám dính của màng. Để có thêm thông tin chi tiết về quy trình phủ PVD và mạ ion, hãy chọn tùy chọn Quy trình phủ trong thực đơn.

Quá trình phủ PVD thường bị lẫn lộn với quy trình CVD (Hóa chất bốc hơi). Quá trình CVD là một quá trình lắng đọng nhiệt chứ không phải là quá trình lắng đọng vật lý.

Quá trình Xi mạ PVD

Để đạt được độ bám dính tốt nhất của lớp phủ trên bề mặt của bề mặt, NCT sử dụng quá trình phủ PVD được gọi là hồ quang cathode. Quá trình sơn cathodic cực kì linh hoạt và cho phép các lớp đơn lớp, lớp nhiều lớp, hoặc lớp màng hợp chất được lắng đọng trên nhiều loại vật liệu khác nhau ở nhiệt độ xử lý khác nhau. Mặc dù có rất nhiều phương pháp phủ mạ PVD khác nhau đang được sử dụng thương mại, nhưng không ai có thể cung cấp sự kết dính của hồ quang cathode. Do tỷ lệ ion hóa rất cao, quá trình cong bằng cathode cung cấp một màng rất dày đặc với độ bám dính tuyệt vời cho bề mặt.

Để có giải thích chi tiết hơn về các phương pháp phủ xi mạ PVD khác nhau và sự khác nhau giữa các quá trình phủ PVD và CVD, vui lòng chọn so sánh quá trình phủ PVD.

Hệ thống phủ

Bức ảnh này thể hiện bên trong một trong những hệ thống phủ của chúng tôi. Các plasma mạnh được tạo ra bởi nguồn bốc hơi hồ quang liên tục bắn phá các chất nền trong suốt chu trình phủ. Plasma tạo ra có nồng độ ion cao, tạo ra các lớp dày đặc dính chặt.

Catot Arc System Coating

Sơ đồ này là một hệ thống lớp phủ hồquang catot điển hình với cathodes diện tích lớn.
Lớp phủ của NCT có thể được áp dụng ở nhiệt độ bề mặt khác nhau. Chúng tôi hiện đang cung cấp quy trình 500 độ Fahrenheit ở nhiệt độ thấp và quy trình chuẩn của chúng tôi, hoạt động ở nhiệt độ 800 độ Fahrenheit. Lớp phủ được lắng đọng từ 2 đến 5 microns và thiết kế hệ thống của chúng tôi cho phép các thành phần dễ dàng được đặt trong vỏ bọc.